54132-GE02
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￥124,300 (税込)
(極)UHV アプリケーションの真空プロセス用
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28432-GE01
￥77,000 (税込)
極めて少ないアウトガス量が要求される UHVアプリケーションの排気およびベント用
26428-KA21
￥35,750 (税込)
高真空アプリケーションの排気、ベント用
在庫あり
26428-KE01
￥42,900 (税込)
26428-KA01
￥28,600 (税込)
54124-GE02
￥111,100 (税込)
54136-GE02
￥253,000 (税込)
28424-GE01
￥61,600 (税込)
26432-KE01
￥53,900 (税込)
26424-KA01
￥26,400 (税込)
26432-KA01
￥35,200 (税込)
59024-GE01
￥201,300 (税込)
プロセス圧力を微小流量で制御するガス導入バルブ
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